濺鍍原理 - 創新技術
使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境,將陰極加至數百伏特電壓,讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿,並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ...
使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境,將陰極加至數百伏特電壓,讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿,並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ...
濺鍍(sputtering)是利用電漿(plasma)對靶材料進行離子轟擊(ion ... 於一密閉製程真空腔體內部通入Argon惰性氣體,於靶材表面及基板間施加一高電壓,此一高電壓 ...
友威科技(UVAT)成立於2002年,常年積極投入真空濺鍍製程技術及鍍膜系統設計及開發,以PVD(濺鍍、蒸鍍、蒸濺鍍)、CVD(PECVD、MOCVD、ThermalCVD)、Dry ...
2006年3月1日 - 電鍍的基本裝置是一電化學電池由陰極、陽極、電源供應器、電鍍液所組成。 1) 陰極-放置基板或欲電鍍物,隨工件之種類可區分為: i) 連續帶狀 ...
PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,採用低氣壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離,利用電子的 ...
2017年12月5日 - 掛牌10 年來首次舉行法人說明會的電子濺鍍廠柏騰,5 日董事長陳在樸在法說會上表示,因為柏騰為國內第一家具備低溫真空濺鍍技術之專業廠商, ...
2010年7月7日 - 真空濺鍍處理即在金屬、塑膠、玻璃或其他材質表面鍍膜處理,具有低成本、高緻密度、高產量與符合綠色環保訴求等優點。